主要技术指标：

曝光面积：165mm×165mm，曝光波长：365nm，分辨力：≤0.8m。可通过目镜目视对准，也可通过CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数400倍，光学+电子放大800倍

主要功能：

将掩膜板上的芯片设计图案精确地转移到硅片等基片上

联系人：唐老师；023-58556521。